[論文]薄膜厚度和消光系數(shù)的透射光譜測量方法（doc文檔） [復制鏈接]

薄膜厚度和消光系數(shù)的透射光譜測量方法摘要：本文提出薄膜厚度和消光系數(shù)的標準曲線測量法，論述了方法的測量原理和測量程序。該法的膜厚的測量范圍為~80nm到2000nm；膜厚的測量誤差大約為13nm。 mq su8ti  
EO3?Dev  
關鍵詞：薄膜、厚度、消光 0Ocy$  
hH|3s-o  
自潔凈玻璃的自潔凈性能、低幅射玻璃的低幅射性能都與其膜層的厚度、折射率和消光系數(shù)有著密切的關系[1]。近代微電子學裝置，如成像傳感器、太陽能電池、薄膜器件等都需要這些參數(shù)[2] 。這些參數(shù)的數(shù)據(jù)是薄膜材料、薄膜器件設計的必不可少的基礎性數(shù)據(jù)。 "{j4?3f)  
9UZKL@KC  
通常都是單獨測量這些參數(shù)，薄膜厚度用原子力顯微鏡、石英震蕩器、臺階儀、橢偏儀、干涉法來測量。薄膜折射率的測量就比較麻煩，因為它是波長的函數(shù)，它可以用基于干涉、反射原理的方法測量。從薄膜的吸收譜就可測量其消光系數(shù)。顯然，取得這些數(shù)據(jù)是很麻煩、很費時、成本也很高，特別是對于納米級薄膜。 8"Hy'JA$O  
%fo