現(xiàn)代光學(xué)薄膜技術(shù)(作者:唐晉發(fā),顧培夫等)

《現(xiàn)代光學(xué)薄膜技術(shù)》第一篇主要介紹光學(xué)薄膜特征的理論計(jì)算、光學(xué)多層膜的設(shè)計(jì)理論和技術(shù)，由唐晉發(fā)教授編寫。第二篇主人介紹光一膜的制造技術(shù)，包括以物理氣相淀積技術(shù)為代表的成膜技術(shù)，涵蓋真空設(shè)備、薄膜材料、制備參數(shù)控制技術(shù)、薄膜厚度監(jiān)控技術(shù)、膜厚均勻性以及制備參數(shù)對(duì)薄膜微觀結(jié)構(gòu)影響等。第三篇主要介紹薄膜光學(xué)特性與光學(xué)常數(shù)的檢測(cè)技術(shù)、薄膜機(jī)械性能的評(píng)價(jià)技術(shù)等。由于光學(xué)薄膜技術(shù)又是一門交叉性很強(qiáng)的學(xué)科，涉及到光電技術(shù)、計(jì)算機(jī)、真空技術(shù)、材料科學(xué)、自動(dòng)控制技術(shù)等領(lǐng)域。 {0r0\D>bw  
光學(xué)薄膜是一門綜合性非常強(qiáng)的工程技術(shù)科學(xué)。它的理論基礎(chǔ)是電磁場(chǎng)理論和麥克斯韋方程，涉及光在傳播過(guò)程中，通過(guò)分層介質(zhì)的反射、透射和偏振特性等。 C=-=_>Q,L<  
為了滿足部分來(lái)自不同領(lǐng)域的光學(xué)薄膜工作者學(xué)習(xí)《現(xiàn)代光學(xué)薄膜技術(shù)》的需要，增加了一個(gè)附錄，主要介紹幾個(gè)數(shù)學(xué)物理基礎(chǔ)理論。 2L!u1  

圖片:bm.jpg

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第一篇光學(xué)多層膜設(shè)計(jì) 5sdn[Tt##  
第1章光學(xué)薄膜特性的理論計(jì)算 .b_)%jd x  
1.1單色平面電磁波 MlcR"gl*  
1.2平面電磁波在單一界布的反射和折射 ?llXd4  
1.3光學(xué)薄膜特性的理論計(jì)算 Id*Ce2B  
1.4光學(xué)多層膜內(nèi)的電場(chǎng)強(qiáng)度分布 ht|z<XJ  
習(xí)題 }~2LW" 1'  
第2章光學(xué)薄膜的設(shè)計(jì)理論 88Ey12$  
2.1矢量作圖法 M\vwI"  
2.2有效界面法  vx\r!]  
2.3對(duì)稱膜系的等效層 AW%50V  
2.4導(dǎo)納圖解技術(shù) Y$o<6[7  
習(xí)題 zy?.u.4L  
第3章光學(xué)薄膜系統(tǒng)的設(shè)計(jì) -N6f1>}pE  
3.1減反射膜 eP.wOl  
3.2分束鏡 o\BOL3H  
3.3高反射膜 V4hiGO[  
3.4干涉截止濾光片