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    [分享]在反應(yīng)濺射鋁的過(guò)程中的打弧問(wèn)題 [復(fù)制鏈接]

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    離線余登峰
     
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    只看樓主 倒序閱讀 樓主  發(fā)表于: 2011-11-27
    在反應(yīng)濺射鋁的過(guò)程中的打弧問(wèn)題，看到的共享一下。
    附件設(shè)置隱藏，需要回復(fù)后才能看到
     
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    離線zmfu77
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    只看該作者 1樓 發(fā)表于: 2011-12-16
    如果采用的是直流磁控濺射設(shè)備，應(yīng)該有以下幾個(gè)原因： &5\iM^  
    1、靶的兩端污染嚴(yán)重，導(dǎo)電性能差，積累大量電荷，造成對(duì)真空腔體放電打火。 Fq0i`~L~  
    2、靶表面污染或有氧化層 z06r6  
    3、靶的兩端有清微漏水、漏氣的情況 /Lfm&;  
    4、電源滅弧性能差
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    只看該作者 2樓 發(fā)表于: 2014-03-09
    看看隱藏了什么？ 6/5YjO|a  
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    只看該作者 3樓 發(fā)表于: 2014-11-06
    回復(fù)看一下附件
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    只看該作者 4樓 發(fā)表于: 2020-08-20
    隱藏的是什么
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    只看該作者 5樓 發(fā)表于: 05-31
    反應(yīng)濺射鍍鋁是加氧鍍氧化鋁嗎 {Bk[rCl  
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    只看該作者 6樓 發(fā)表于: 06-01
    一樣的 -c_74c50