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[分享]在反應濺射鋁的過程中的打弧問題 [復制鏈接]

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離線余登峰

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只看樓主倒序閱讀樓主發(fā)表于: 2011-11-27

在反應濺射鋁的過程中的打弧問題，看到的共享一下。

附件設置隱藏，需要回復后才能看到

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離線zmfu77

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只看該作者 1樓發(fā)表于: 2011-12-16

如果采用的是直流磁控濺射設備，應該有以下幾個原因：
1、靶的兩端污染嚴重，導電性能差，積累大量電荷，造成對真空腔體放電打火。
2、靶表面污染或有氧化層
3、靶的兩端有清微漏水、漏氣的情況
4、電源滅弧性能差

離線guangbao

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只看該作者 2樓發(fā)表于: 2014-03-09

看看隱藏了什么？

離線caiqiwen

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只看該作者 3樓發(fā)表于: 2014-11-06

回復看一下附件

離線光跡

助理工程師

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只看該作者 4樓發(fā)表于: 2020-08-20

隱藏的是什么

離線嚶?lián)糸L空

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只看該作者 5樓發(fā)表于: 05-31

反應濺射鍍鋁是加氧鍍氧化鋁嗎