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[分享]在反應(yīng)濺射鋁的過(guò)程中的打弧問(wèn)題 [復(fù)制鏈接]

只看樓主倒序閱讀樓主發(fā)表于: 2011-11-27

在反應(yīng)濺射鋁的過(guò)程中的打弧問(wèn)題，看到的共享一下。

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離線zmfu77

只看該作者 1樓發(fā)表于: 2011-12-16

如果采用的是直流磁控濺射設(shè)備，應(yīng)該有以下幾個(gè)原因：
1、靶的兩端污染嚴(yán)重，導(dǎo)電性能差，積累大量電荷，造成對(duì)真空腔體放電打火。
2、靶表面污染或有氧化層
3、靶的兩端有清微漏水、漏氣的情況
4、電源滅弧性能差

只看該作者 2樓發(fā)表于: 2014-03-09

看看隱藏了什么？


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