切換到寬版
  • 廣告投放
  • 稿件投遞
  • 繁體中文
    • 2351閱讀
    • 0回復(fù)

    [下載]工件臺(tái)轉(zhuǎn)速對(duì)非平衡磁控濺射沉積MoS2- Ti復(fù)合薄膜的結(jié)構(gòu)與性能影響 [復(fù)制鏈接]

    上一主題 下一主題
    離線chenchao
     
    發(fā)帖
    61
    光幣
    238
    光券
    0
    只看樓主 倒序閱讀 樓主  發(fā)表于: 2011-12-18
    關(guān)鍵詞: 磁控濺射薄膜
    工件臺(tái)轉(zhuǎn)速對(duì)非平衡磁控濺射沉積MoS2- Ti復(fù)合薄膜結(jié)構(gòu)與性能影響摘要:采用非平衡磁控濺射沉積技術(shù)制備 MoS 2 2 Ti復(fù)合薄膜 , 研究了工件臺(tái)轉(zhuǎn)速對(duì)薄膜的結(jié)構(gòu)和性能的影響。利用XRF和 XRD分析薄膜的成分和晶相結(jié)構(gòu) , 用 CSEM薄膜綜合性能測(cè)試儀測(cè)試薄膜的硬度和與基底間的附著力 , 用球 2 盤摩擦試驗(yàn)機(jī)和真空環(huán)模系統(tǒng)評(píng)價(jià)薄膜的真空摩擦磨損性能。結(jié)果表明: 提高工件臺(tái)轉(zhuǎn)速改善了摻雜金屬 Ti在薄膜中的分布均勻性 , 起到了細(xì)化晶粒尺寸 , 使薄膜組織結(jié)構(gòu)致密性加強(qiáng)的效果。工件臺(tái)轉(zhuǎn)速變化不影響薄膜成分 , 薄膜的晶相從明顯的 (002) 基面優(yōu)勢(shì)取向向準(zhǔn)晶態(tài)轉(zhuǎn)變; 薄膜的硬度、與基底間的附著力都隨工件臺(tái)轉(zhuǎn)速的提高而增大; 薄膜在真空環(huán)境中的減摩作用與工件臺(tái)轉(zhuǎn)速無關(guān) , 摩擦因數(shù)平均值為 0102, 波動(dòng)范圍為 0101~0104, 薄膜耐磨壽命隨工件臺(tái)轉(zhuǎn)速提高而延長(zhǎng)。 wb]*u7G t/  
    _ e6a8  
    關(guān)鍵詞:非平衡磁控濺射;MoS 2 2 Ti復(fù)合薄膜;工件臺(tái)轉(zhuǎn)速;結(jié)構(gòu)和性能
     
    分享到