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    [下載]碳化硅顆粒表面磁控濺射鍍銅膜的研究 [復(fù)制鏈接]

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    只看樓主 倒序閱讀 樓主  發(fā)表于: 2011-12-18
    碳化硅顆粒表面磁控濺射鍍銅膜的研究摘要:采用直流磁控濺射方法 ,在 SiC顆粒表面成功地沉積了金屬銅膜。利用場發(fā)射掃描電子顯微鏡( FESEM) 、 能譜儀( EDS)和電感耦合等離子體發(fā)射光譜( ICP2AES)等測試儀器對其表面形貌和組份進(jìn)行了表征。重點討論了不同的沉積條件對薄膜結(jié)晶的影響 ,并用 X射線衍射儀(XRD)對其進(jìn)行了表征。結(jié)果表明 ,濺射鍍膜時 ,通過控制 SiC顆粒的運動方式 ,可以在其表面鍍上均勻、 連續(xù)和致密的金屬膜。濺射時間越長或濺射功率越大或溫度越高 ,都有利于薄膜結(jié)晶。 QXu[<V  
    ;w7s>(ITZ  
    關(guān)鍵詞:磁控濺射;金屬膜;碳化硅;X射線衍射儀
    附件: 碳化硅顆粒表面磁控濺射鍍銅膜的研究.rar (438 K) 下載次數(shù):5 ,售價:2光幣[記錄]
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    cyqdesign 光幣 +5 - 2011-12-18
     
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