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    等離子體清洗設(shè)備在光學(xué)領(lǐng)域的應(yīng)用! [復(fù)制鏈接]

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    只看樓主 倒序閱讀 樓主  發(fā)表于: 2006-08-22
    等離子體清洗設(shè)備的應(yīng)用
    <n#phU Q  
    4O I''i  
    Ai*R%#  
    應(yīng)用領(lǐng)域: !UzMuGj  
    1、清洗光學(xué)器件、電子元件、激光器件、鍍膜基片、芯片 QaVxP1V#U  
      • 清洗光學(xué)鏡片、電子顯微鏡片等多種鏡片和載片 ]t2zwHo#  
      • 移除光學(xué)元件、半導(dǎo)體元件等表面的光阻物質(zhì) /5**2Kgv1  
      • 清洗ATR元件、各種形狀的人工晶體、天然晶體和寶石 62-,!N 1-  
      • 清洗半導(dǎo)體元件、印刷線路板 zcqv0lM '  
      • 清洗生物芯片、微流控芯片 wP|Amn+;  
      • 清洗沉積凝膠的基片 0fOx&"UAB  
    ^-wdIu~p?  
    2、牙科領(lǐng)域:對(duì)硅酮壓模材料和鈦制牙移植物的預(yù)處理,增強(qiáng)其浸潤(rùn)性和相容性 < bvbfS  
    \OzPDN  
    3、醫(yī)用領(lǐng)域:修復(fù)學(xué)上移植物的表面預(yù)處理,增強(qiáng)其浸潤(rùn)性、粘附性和相容性,醫(yī)療器械的消 毒和殺菌 kzkrvC+u  
    (u_?#PjX  
    4、改善粘接光學(xué)元件、光纖、生物醫(yī)學(xué)材料、宇航材料等所用膠水的粘和力 E%.w6-  
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    5、去除金屬材料表面的氧化物