等離子體清洗設(shè)備的應(yīng)用
<n#phU Q 4O I''i Ai*R%# 應(yīng)用領(lǐng)域: !UzMuGj 1、清洗光學(xué)器件、電子元件、激光器件、鍍膜基片、芯片
QaVxP1V#U • 清洗光學(xué)鏡片、電子顯微鏡片等多種鏡片和載片
]t2zwHo# • 移除光學(xué)元件、半導(dǎo)體元件等表面的光阻物質(zhì)
/5**2Kgv1 • 清洗ATR元件、各種形狀的人工晶體、天然晶體和寶石
62-,!N 1- • 清洗半導(dǎo)體元件、印刷線路板
zcqv0lM ' • 清洗生物芯片、微流控芯片
wP|Amn+; • 清洗沉積凝膠的基片
0fOx&"UAB ^-wdIu~p? 2、牙科領(lǐng)域:對(duì)硅酮壓模材料和鈦制牙移植物的預(yù)處理,增強(qiáng)其浸潤(rùn)性和相容性
<bvbfS \OzPDN 3、醫(yī)用領(lǐng)域:修復(fù)學(xué)上移植物的表面預(yù)處理,增強(qiáng)其浸潤(rùn)性、粘附性和相容性,醫(yī)療器械的消 毒和殺菌
kzkrvC+u (u_?#PjX 4、改善粘接光學(xué)元件、光纖、生物醫(yī)學(xué)材料、宇航材料等所用膠水的粘和力
E%.w6- ;nSOeAF)Q 5、去除金屬材料表面的氧化物