在PMMA基底上鍍AR膜系,905nm增透。 2+Fq'!
基片經(jīng)超聲波中性洗劑清洗后,放在恒溫箱中75℃,退火2h;在光馳機(jī)器中不加熱,開(kāi)離子源,真空抽至2E-3開(kāi)始鍍(Ta2O5/石英環(huán))。 F<^,j7@
出鍋后,基片上的膜層就出現(xiàn)明顯裂痕。 ?j $z[_K
基片翻面放進(jìn)機(jī)器,降低鍍石英環(huán)的離子轟擊能量,并在出鍋后,直接放入恒溫箱中75℃退火2h。結(jié)果是基片沒(méi)有裂痕,但膜層一擦就掉。 @c{Z?>dUc#
請(qǐng)教下各位,應(yīng)該怎樣有效的降低PMMA的內(nèi)應(yīng)力,工藝上有哪些不當(dāng)?shù)牡胤较M梢圆涣哐赞o予以指正,謝謝!