[求助]鍍AR出現(xiàn)的問(wèn)題，大神們求指點(diǎn)。 [復(fù)制鏈接]

圖一：同一傘從上到下的反射數(shù)據(jù)。不知道主要問(wèn)題在哪里？ %jc"s\  
   謝謝各位！！ 7{f
Oo%(7  
  圖二：是與圖二同一臺(tái)機(jī)鍍的另外一個(gè)工藝（除膜厚外，其他條件是一樣的）的反射數(shù)據(jù)。 ]A%S&q  
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圖片:A5254BD4984F47E3B7FB814F3297C810.jpg

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        圖一是7層  LHLHLHL       H4\SIO2      6upCL:A~r  
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圖片:9CAEB8CFAB0D98EAB544F93840406934.jpg

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      圖二是 5層   LHLHL             H4\SIO2   ]?"1FSu-8r  
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均勻性問(wèn)題，建議使用修正板 \7elqX`.yY  

ysc212:均勻性問(wèn)題，建議使用修正板 E%tGwbi7  
 (2017-06-20 09:34)  s+RSAyU  

6OOdVS3\J  
恩   但是第二張圖只是膜厚層數(shù)不同，差異就沒(méi)有第一個(gè)大。是不是第一個(gè)膜系里面有些敏感層。謝謝回復(fù)。

個(gè)人感覺(jué)是膜層敏感度的原因，特別是光控進(jìn)行鍍膜時(shí)更容易發(fā)生這種現(xiàn)象

yzhuang:個(gè)人感覺(jué)是膜層敏感度的原因，特別是光控進(jìn)行鍍膜時(shí)更容易發(fā)生這種現(xiàn)象 (2017-06-27 11:20)  }g@5%DI
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我用的晶控，同樣的修正版 膜料 鍍出來(lái)的差異太大了，SIO2  H4是同一個(gè)修正板。

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我建議你做一下圖一的重復(fù)性，如果每爐差，但是情況不一樣，那么是你的敏感層是H4，要么膜系結(jié)構(gòu)優(yōu)化一下，（圖2是單峰結(jié)構(gòu)，敏感度沒(méi)那么高）要么控制H4的預(yù)熔與充氧量； vI)-Zz[3  
O5;$cP:  
如果每爐都這樣，那肯定是均勻性沒(méi)做好，有條件的話  高低折射率的mask單獨(dú)修一下； =5PNH