在PMMA基底上鍍AR膜系，905nm增透。 H5
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基片經(jīng)超聲波中性洗劑清洗后，放在恒溫箱中75℃，退火2h；在光馳機(jī)器中不加熱，開離子源，真空抽至2E-3開始鍍（Ta2O5/石英環(huán)）。 ,w9| ?%S
出鍋后，基片上的膜層就出現(xiàn)明顯裂痕。 )^"V}z
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基片翻面放進(jìn)機(jī)器，降低鍍石英環(huán)的離子轟擊能量，并在出鍋后，直接放入恒溫箱中75℃退火2h。結(jié)果是基片沒有裂痕，但膜層一擦就掉。 Aho*E9VW
請(qǐng)教下各位，應(yīng)該怎樣有效的降低PMMA的內(nèi)應(yīng)力，工藝上有哪些不當(dāng)?shù)牡胤较Ｍ梢圆涣哐赞o予以指正，謝謝！
